集成电路布图设计权的特征

2025-03-23 13:44:10
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集成电路布图设计专有权与著作权、发明专利权保护的异同比较
集成电路布图设计专有权既不同于版权,又不同于专利或商标,但其保护制度既具有部分版权保护的特征,又具有部分工业产权,特别是专利权保护的特征。这一点从以下的图表中可以较清晰地表明:   著作权(2001 年) 布图设计(2001 年 ) 发明专利(2000 年) 受保护的条件 独创性 独创性;非公认的常规性 新颖性、创造性和实用性 申请登记制 无须登记,自动产生 必须登记 必须申请 保护期限 署名权、修改权、保护作品完整权无期限;公民的作品发表权及财产权为终生之年加死后50 年。 10 年,自登记申请或首次投入商业利用之日,以较前者为准;创作完成15 年后,不受条例保护。 20 年,自申请日计算 何为侵权 未经许可发表、复制、发行、通过信息网络传播等(第46 、47 条) 未经许可复制;为商业目的进口、销售或其他方式提供受保护的布图设计、集成电路及物品(第30 条) 未经许可实施专利,即生产经营目的制造、使用、许诺销售、销售、进口等(第57 -59 条) 反向 工程 没有规定 允许(第23 条第一款第二项) 不允许 无过错原则 不能证明其发行、出租的复制品有合法来源的,应当承担法律责任 不知情前无责任,知情后可以继续使用但支付合理使用费 不知情,但能证明合法来源的,不承担赔偿责任 权利的限制 合理使用,可以不经允许,不付报酬 合理使用,可以不经许可,不付报酬 权利用尽等四种情形不视为侵犯专利权 强制性许可 没有规定 可以(第25 条) 可以(第48 -50 条) 行政部门 版权局 知识产权局 知识产权局 以上图表可以看出,布图设计专有权与著作权相比更具有工业实用性,这是一般著作权作品不具有的;同时其独创性又是一般专利产品不具有的,而且又允许反向工程,具有其自身特征。从保护期限看,也仅有10 年,且创作完成15 年后将不受保护,符合其技术更新较快的特点。特别值得指出的是,条例允许“平行进口”。
根据条例第24 条 规定,“受保护的布图设计… ,由布图设计权利人或者经其许可投放市场后,他人再次商业利用的,可以不经布图设计权利人许可,并不向其支付报酬。”而按照条例第2 条规定,商业利用是指“为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计… 的行为”。从而,按照条例的规定,只要布图设计合法投放市场后,权利在全世界用尽,可以不经再次许可而进口、销售等。